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RTP ANNEALSYS - 2017 - AS-Micro - Forno
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- Stato
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Specifiche del lotto
- Quantità
- 1
- Margine
- No
- Marchio
- RTP ANNEALSYS
- Tipo
- AS-Micro
- Anno di costruzione
- 2017
Descrizione
Il
forno offre il più alto tasso di aumento della temperatura, fino a 250 °C/s per wafer da 2 pollici.
Intervallo di temperatura: temperatura ambiente fino a 1.250 °C
Velocità di aumento della temperatura fino a 250 °C/s su un substrato di silicio di 2 pollici di diametro, 200 °C/s su 3 pollici.
Capacità di miscelazione dei gas con regolatori di flusso di massa.
Campo di vuoto: da atmosfera a 10-2 Torr (10-6 Torr con turbopompa opzionale).
Controllo della temperatura a termocoppia con regolatore di temperatura PID digitale veloce.
Controllo completo del PC con software compatibile con Windows.
Ulteriori dettagli
I lotti saranno caricati gratuitamente dal venditore, su un veicolo idoneo.
I ritiri verranno effettuati solo su appuntamento convalidato dal venditore.
Se desideri ottenere un preventivo per l'imballaggio e il trasporto, contatta la società JMA-EXPRESS: auction@jma-express.com
